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磁控离子溅射仪

产物介绍：

磁控离子溅射仪或是喷金仪是一种利用真空镀膜技术开发研制成高科技产物，作为扫描电镜所需要的一款制样仪器，可以配合扫描电子显微镜很方便的观测试样的微观形貌，从而提高试样的导电性和导热性。磁控离子溅射仪为全闭环真空设计配有全量程皮拉尼真空计等多个传感器实时监控运行状态，保证仪器安全稳定运行。自动磁控离子溅射仪采用高性能旋真空泵快速获得<1Pa的真空环境，高精度的溅射电源采用恒流控制来保证高精细的膜层质量。同时平面磁控测射阴极减少等离子体对试样表面的轰击和热效应，高性能的平面磁控溅射阴极可实现多种靶材的选择 (Au、Pt、Ag、Pd等)，高精度的纳米涂层为纳米级别，可满足现代分析实验要求。可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、绝缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等。

应用领域：

光学领域：中频闭场非平衡磁控溅射技术应用于光学薄膜（如减反射膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃；

微电子领域：用于沉积具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的薄膜，如低温下沉积氮化硅增透膜以提高太阳能电池的光电转换效率。

高温超导薄膜、铁电薄膜、巨磁阻薄膜等领域：磁控溅射技术在这些领域的研究中发挥着重要作用；

机械加工行业：表面功能膜、超硬膜和自润滑膜的表面沉积技术可有效提高表面硬度、复合韧性、耐磨性和高温化学稳定性，从而提高涂层产物的使用寿命。

产物优势：

1、全自动操作，简单易用，非常适用钨灯丝、台式扫描电镜等

l溅射电流自动调整?设定溅射电流后，系统自动调节真空度，从而达到设定的溅射电流，调整时间＜5蝉，波动范围＜5%；无需按“实验"键调整溅射电流、无需操作“进气阀"。

l溅射时间自动记忆?同类样品一次设定即可；

l参数改变自动调整?溅射过程中可以随时调整溅射电流和溅射时长，系统自动计算迭加，无需终止溅射过程；

l工作完成自动放气；

l样品台高度调节1秒完成；

l溅射过程可以利用曲线显示，清晰直观。

2、软硬件互锁，防误操作，安全可靠

l真空度高于100笔补，启动真空保护，无法溅射；

l溅射电流高于50尘础，停止溅射过程；

l真空泵工作时，系统无法进行放气操作；